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lithography /lɪ'θɒɡrəfi//lɪ'θɑːɡrəfi/

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n.
planographic printing, planography, printmaking

联想词
etching蚀刻术;printing印刷;etch蚀刻;semiconductor;patterning制作布线图案;fabrication制造;wafer薄脆饼;inkjet喷墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving雕刻的画;watercolor水彩;
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electron beam lithography 电子曝光；电子蚀刻
optical lithography 光学平板刻法，光学制版
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A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.

摘要提出了一种新的空心微针工方法，利用三次同步辐射曝光和显影过程来工微针。

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planographic printing, planography, printmaking

联词
etching刻术;printing印刷;etch刻;semiconductor半导体;patterning制作布线图案;fabrication制造;wafer薄脆饼;inkjet喷墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving雕刻的画;watercolor水彩;
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electron beam lithography 电子曝光；电子刻
optical lithography 光学平板刻法，光学制版
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A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.

摘要提出了一种新的空心微针阵列加工方法，利用三辐射曝光和显影过程来加工微针。

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planographic printing, planography, printmaking

联想词
etching蚀刻术;printing印刷;etch蚀刻;semiconductor半导体;patterning制作布线图案;fabrication制造;wafer薄;inkjet墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving雕刻的画;watercolor水彩;
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electron beam lithography 电子曝光；电子蚀刻
optical lithography 光学平板刻法，光学制版
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A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.

摘了一种新的空心微针阵列加工方法，利用三次同步辐射曝光和显影过程来加工微针。

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planographic printing, planography, printmaking

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etching蚀刻术;printing印刷;etch蚀刻;semiconductor半导体;patterning作布线图案;fabrication;wafer薄脆饼;inkjet喷墨打印机;foundry，;engraving雕刻的画;watercolor水彩;
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A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.

摘要提出了一种新的空心微针阵列加工方法，利用三次同步辐射曝光和显影过程来加工微针。

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n.
planographic printing, planography, printmaking

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etching蚀刻术;printing印刷;etch蚀刻;semiconductor半导体;patterning线图案;fabrication造;wafer薄脆饼;inkjet喷墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving雕刻的画;watercolor水彩;
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electron beam lithography 电子曝光；电子蚀刻
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A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.

摘要提出了一种新的空阵列加工方法，利用三次同步辐射曝光和显影过程来加工。

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n.
planographic printing, planography, printmaking

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etching蚀刻术;printing印刷;etch蚀刻;semiconductor半导体;patterning制作布线图案;fabrication制造;wafer;inkjet喷墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving雕刻的画;watercolor水彩;
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electron beam lithography 电子曝光；电子蚀刻
optical lithography 光学平板刻法，光学制版
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A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.

摘要一种新的空心微针阵列加工方法，利用三次同步辐射曝光和显影过程来加工微针。

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近义词
n.
planographic printing, planography, printmaking

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etching术;printing印刷;etch;semiconductor导体;patterning制作布线图案;fabrication制造;wafer薄脆饼;inkjet喷墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving雕的画;watercolor水彩;
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electron beam lithography 电子曝光；电子
optical lithography 光学平板法，光学制版
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摘要提出了一种新的空心微针阵列法，利用三次同步辐射曝光和显影过程来微针。

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n.
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etching蚀刻术;printing印刷;etch蚀刻;semiconductor半导体;patterning制作布线图案;fabrication制造;wafer薄脆饼;inkjet喷墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving雕刻的画;watercolor水彩;
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n.
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etching蚀术;printing印刷;etch蚀;semiconductor半导体;patterning制作布线图案;fabrication制造;wafer薄脆饼;inkjet喷墨打印机;foundry铸造，铸造类;engraving画;watercolor水彩;
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electron beam lithography 电子曝；电子蚀
optical lithography 学平板法，学制版
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A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.

摘要提出了一种新空心微针阵列加工方法，利用三次同步辐射曝和显影过程来加工微针。

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