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quinone
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醌类染料。醌类染料(quinone)
有萘醌染料
蒽醌染料及其它们的衍生物。萘醌、蒽醌:醌分子是一个强的电子受
。通过在分子内引入适当的给
强的受
。将使它具有分子内电荷转移化合物的性质。吸收从可见区移到红外区。克分子消光系数增大。对商用半
光器的辐射有较强的吸收。这类染料中研究得比较多的是1,4-萘醌型
9,10-蒽醌型染料。这类化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜的方法来制备光盘的记录层。生产成本高。但其优点是不用溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整个光盘的性质可得到改善。
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醌类染料。醌类染料(quinone)主要有萘醌染料
蒽醌染料及其它们的衍生物。萘醌、蒽醌:醌
是一个强的电
受体。通
引入适当的给体
强的受体。将使它具有
电荷转移化合物的性质。吸收从可见区移到红外区。克
消光系数增大。对商用半导体激光器的辐射有较强的吸收。这类染料中研究得比较多的是1,4-萘醌型
9,10-蒽醌型染料。这类化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜的方法来制备光盘的记录层。生产成本高。但其优点是不用溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整个光盘的性质可得到改善。
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类
。
类
(quinone)主要有萘
蒽
及其它们的衍生物。萘
、蒽
:
分子是一个强的电子受体。通过在分子内引入适当的给体
强的受体。将使它具有分子内电荷转移化合物的性质。吸收从可见区移到红外区。克分子消光系数增大。
半导体激光器的辐射有较强的吸收。这类
中研究得比较多的是1,4-萘
型
9,10-蒽
型
。这类化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜的方法来制备光盘的记录层。生产成本高。但其优点是不
溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整个光盘的性质可得到改善。
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醌类染料。醌类染料(quinone)主要有萘醌染料
蒽醌染料及其它们
衍生物。萘醌、蒽醌:醌分子是一个强
电子受体。通过在分子内引入适当
给体
强
受体。将使它具有分子内电荷转移化合物
性质。
从可见区移到红外区。克分子消光系数增大。对商用半导体激光器
辐射有较强
。这类染料中研究得比较多
是1,4-萘醌型
9,10-蒽醌型染料。这类化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜
方法来制备光盘
记录层。生产成本高。但其优点是不用溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整个光盘
性质可得到改善。
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醌类染料。醌类染料(quinone)主要有萘醌染料
蒽醌染料及其它们
衍生
。萘醌、蒽醌:醌分子是一
电子受体。通过在分子内引入适当
给体
受体。将使它具有分子内电荷转移化
性质。吸收从可见区移到红外区。克分子消光系数增大。对商用半导体激光器
辐射有较
吸收。这类染料中研究得比较多
是1,4-萘醌型
9,10-蒽醌型染料。这类化
不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜
方法来制备光盘
记录层。生产成本高。但其优点是不用溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整
光盘
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类染料。
类染料(quinone)主要有萘
染料
蒽
染料及其它们的衍生物。萘
、蒽
:
子是一个强的电子受体。通过在
子内引入适当的给体
强的受体。将使它具有
子内电荷转移化合物的性质。吸
见区移到红外区。克
子消光系数增大。对商用半导体激光器的辐射有较强的吸
。这类染料中研究得比较多的是1,4-萘
型
9,10-蒽
型染料。这类化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜的方法来制备光盘的记录层。生产成本高。但其优点是不用溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整个光盘的性质
得到改善。
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料。
料(quinone)主要有萘
料
蒽
料及其它们的衍生物。萘
、蒽
:
分子是一个
的电子受体。通过在分子内引入适当的给体
的受体。将使它具有分子内电荷转移化合物的性质。吸收从可见区移到红外区。克分子消光系数增大。对商用半导体激光器的辐射有
的吸收。这
料中研究得比
多的是1,4-萘
型
9,10-蒽
型
料。这
化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜的方法来制备光盘的记录层。生产成本高。但其优点是不用溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整个光盘的性质可得到改善。
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醌类染料。醌类染料(quinone)主要有萘醌染料
蒽醌染料
们的衍生物。萘醌、蒽醌:醌
是一个强的电
受体。通过在
内引入适当的给体
强的受体。将使
具有
内电荷转移化合物的性质。吸收从可见区移到红外区。克
光系数增大。对商用半导体激光器的辐射有较强的吸收。这类染料中研究得比较多的是1,4-萘醌型
9,10-蒽醌型染料。这类化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜的方法来制备光盘的记录层。生产成本高。但
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类
料。
类
料(quinone)主要有萘
料
料及其它们的衍生物。萘
、
:
分子是一个强的电子受体。通过在分子内引入适当的给体
强的受体。将使它具有分子内电荷转移化合物的性质。吸收从可见区移到红外区。克分子消光
大。对商用半导体激光器的辐射有较强的吸收。这类
料中研究得比较多的是1,4-萘
型
9,10-
型
料。这类化合物不易溶解也不带电荷。一般以真空镀膜的方法来制备光盘的记录层。生产成本高。但其优点是不用溶剂。因而盘基不受任何侵蚀。整个光盘的性质可得到改善。
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